Name: 液氦變溫探針台 HeFans HRH-V/變溫探針台 NitroFans HRN-V
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配置	參數
真空腔體	真空腔材質為無磁材料，能夠有效減小外界的電磁幹擾，如不鏽鋼、鋁合金等，典型：鋁合金一體成型，直徑≥220mm，高度≥140mm，防輻射屏帶≥50mm藍寶石窗口，可定製不同體積腔體，通過O圈和CF法蘭密封；高可見光透射觀察窗口設有兩層，外層為紅外絕熱窗片，隔絕環境光輻射；探針臂：配置4個直流臂，外部預留三同軸接口，可進行直流到50MHz的射頻測量，探針臂的漏電流要求小於100fA@1V@4.5K-350K，整體帶有不低於50歐姆的匹配阻抗；預留2個探針臂，支持後續甚至拓展；降溫時間：120分鍾到5K；下法蘭帶固定端，與光學平台連接；直徑為4英寸的紫銅材質樣品台；真空度：室溫：優於5×10-4mbar；基礎溫度：優於5×10-5mbar；氣孔：標配一個KF25真空抽氣口，一個快速破真空進氣口
探針台座	X-Y-Z-R四維調節：X方向移動範圍≥50mm；Y方向移動範圍≥25mm；Z方向移動範圍≥25mm，R-±10°，X/Y/Z方向的加工精度≤±0.03 mm；讀數精度不小於10um，旋轉精度不小於0.01°，移動精度不小於10um，旋轉精度不小於0.01°，可以滿足全部4英寸範圍的紮針；每個探針臂預留≥2個真空密封法蘭，支持升級拓展；樣品台三檔高度可調；位移方向XYZ三軸,采用交叉滾柱導軌,產品定向性能穩定；配鈹銅、鎢等探針；標準4英寸接地樣品台，支持不同尺寸樣品台
光學平台	光學隔振平台專門設計的水平減震機構，隔振基礎采用二層氣囊隔離，空氣隔離器利用空氣阻尼技術在各個方向上都提供了優異的減振性能，減振器自身的自然振動頻率非常低，防止由瞬變幹擾產生的搖擺；穩定輕鬆調節，穩定可靠結構十分緊湊；平面度＜0.10mm/m2；固有頻率垂直1.2Hz～1.8Hz,水平1.2Hz～1.8Hz；振幅＜1.2μm；重複定位精度±0.05mm。
顯微成像系統	顯微鏡帶有LED環形和同軸光源，配合CCD相機，可以將待測器件放大10-180倍，工作距離90-100mm； CCD相機分辨率不小於3μm，有拍照、錄像等功能，可以將照片、視頻通過數據線傳輸到電腦端； X/Y方向移動距離≥40mm，成像分辨率≤4微米，連續變倍比≥6.5:1 配高清成像CCD，采用USB連接電腦，2000萬像素，HDMI數字傳輸接口，數據傳輸速率≥480MPS, 通過軟件調節亮度、對比度、銳度和伽馬值，可以拍照、錄像；探測儀配件：可探測波長範圍3-6μm，收光範圍覆蓋φ2 mm，外部電源±12V，工作溫度覆蓋0-40℃，液氮製冷，內置放大器，工作頻率覆蓋5-12000Hz。注：支持定製多種探針台結合的檢測探測耦合方案
真空系統	配置一：配備普發(Pfeiffer Vacuum，德國)分子泵。前級泵為隔膜泵，抽速不低於1立方米/小時/氮氣，分子泵機組抽速不低於67L/s @氮氣，極限真空小於1X10-7mbar；含全量程真空規和配套真空計等。配置二：配風冷複合分子泵+機械泵，設備真空度在分子泵啟動到400Hz後優於310-3Pa，30分鍾以內優於510-4Pa，極限真空度3*10-5Pa。分子泵：抽速600L/s；機械泵：抽速3L/s。含全量程真空規和配套真空計等。常溫真空系統極限噪音電流≤100fA，配合半導體參數分析儀；備注：支持其它定製化真空發生器配置。
溫控系統	高溫部件構成及低溫部件構成；具有不少於8通道獨立輸入和兩通道分別為100W和50W的加熱輸出。樣品台上帶有高精度高低溫溫度傳感器和100W高低溫高精度專用加熱器；溫度範圍：4.5K～500K，分辨率不低於1K；製冷形式：采用閉循環製冷機製冷，不需要消耗液氮或液氦（采用連續流降溫技術），降溫到基礎溫度時間≤45分鍾（典型：室溫到基礎溫度消耗液氮4-5L，80k控溫液氮≤1.5L/h）； ≥8KW一體風冷循環冷卻水；製冷源及維護時間：冷頭維護時間不少於10000個小時；壓縮機維護時間不少於30000個小時；同軸製冷劑入口，具有二級熱交換平台；高精度液氮傳輸管線，流量傳輸管線采用真空密封波紋管，雙層套管結構，可精細調節液氮流量；搭配50L等液氮杜瓦罐，自增壓，匹配探針台傳輸管線，包括壓力計，氣口，氣閥
充氣系統	3路質量流量計，配置質量流量計； 3路CF16手動充氣針閥。
備品備件	密封套件；鎢鋼、鈹銅等探針（含多種規格）；探針臂陶瓷件；同軸電纜等；安全壓力閥（10psi）。

液氦變溫探針台 HeFans HRH-V/變溫探針台 NitroFans HRN-V

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