產品簡介
AluVac是一款面向高校和科研實驗室的自動化熱蒸發真空鍍膜儀，用於在半導體、光電器件及功能材料表面製備均勻薄膜。系統集成真空獲得、熱蒸發沉積、狀態監測與安全保護，主要用於提升薄膜製備的可控性和實驗複現性。AluVac系列可提供最大200A蒸鍍電流，最大蒸發溫度可達600°C，能夠滿足大部分有機材料的蒸鍍，可按客戶需求定製更高蒸鍍溫度；真空腔室采用優質不鏽鋼材料，采用方形結構，內部空間充足；可設置最大16組不同的蒸發材料，可滿足各種複雜的蒸鍍條件；搭配分子泵可達優於5*10-4Pa的真空度，適應絕大部分蒸發材料所需真空環境。
產品特點
□ 自動切換掩膜系統；
□ 自動開關腔體，自動抽真空、退真空系統；
□ 自動鍍膜工藝；
□ 完善的錯誤檢測系統
□ 優異的鍍膜均勻性；
□ 提供定製化服務。
產品應用
□ 有機分子薄膜製備；
□ 半導體薄膜製備；
□ 光學薄膜製備；
□ 金屬電極製備；
□ 典型樣品：OLED、鈣鈦礦、薄膜電池、薄膜晶體管等。
功能參數
□ 蒸發源數量：2~16組可選；
□ 蒸發電流：0~200A連續可調；
□ 蒸發電源模組：1~10組可選，功率600W,1200W,1500W可選；
□ 極限真空：優於4*10-5Pa；
□ 樣品與蒸發源距離：固定或0~70mm可調；
□ 鎢舟擋板：按蒸發源標配，2~16組；
□ 氣壓保護：進口壓力開關，正負壓可設置，有效保護真空環境；
□ 抽氣速率：常壓至5*10-2Pa≤10min；
□ 掩膜庫：4位/6位/8位可選；
□ 真空保持：停止真空系統後12小時≤2 Pa；
□ 門板控製：手動、手動自動集成可選；
□ 采用熱蒸發沉積路線，配置分子泵與機械泵真空系統，真空計顯示範圍覆蓋1.0×10^5 Pa-1.0×10^-5 Pa；
□ PC軟件統一控製真空獲得和沉積過程，並對氣壓、高壓等關鍵狀態進行全過程監測與即時報警。
規格型號
參數/規格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
鍍膜方式 | 多源熱蒸發鍍膜 | 多源熱蒸發鍍膜 | 多源熱蒸發鍍膜 |
腔體結構 | 方形，前後開門，可配合手套箱安裝 | 方形，前後開門，可配合手套箱安裝 | 方形，前後開門，可配合手套箱安裝 |
材質用料 | 優質真空不鏽鋼 | 優質真空不鏽鋼 | 優質真空不鏽鋼 |
真空腔室尺寸 | L260*W262*H351 | L360*W363*H486 | L460*W464*H635 |
加熱溫度 | 最大600℃ | 最大600℃ | 最大600℃ |
蒸發源數量 | 2~8可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉汙染 | 6~12可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉汙染 | 10~16可選；扇形分布，相互間擋板隔離，避免交叉汙染 |
MagicVol/切換 | PC控製 | PC控製 | PC控製 |
蒸發源/加熱溫度 | 室溫~600°C | 室溫~600°C | 室溫~600°C |
蒸發源參數 | 金屬舟：200A | 金屬舟：200A | 金屬舟：200A |
基片台（樣品架） | φ161mm | φ224mm | φ287mm |
樣品托及掩模版 | 樣品托面積：70×70mm，可放置最大65×65mm樣品 | 樣品托面積：100×100mm，可放置最大90×90mm樣品 | 樣品托面積：140×140mm，可放置最大134×134mm樣品或放16片25×25mm樣品 |
基片台擋板 | 程控，氣缸+磁流體驅動，傳動穩定，密封可靠 | 程控，氣缸+磁流體驅動，傳動穩定，密封可靠 | 程控，氣缸+磁流體驅動，傳動穩定，密封可靠 |
基片台升降 | 固定間距或0~30mm可調 | 固定間距或0~50mm可調 | 固定間距或0~70mm可調 |
參數/規格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
基片尺寸 | ≤30×30mm | ≤30×30mm | ≤30×30mm |
膜厚不均勻性 | ≤5% | ≤5% | ≤5% |
備用接口 | 4 | 6 | 6 |
門板控製 | 手動/自動/手動自動一體 | 手動/自動/手動自動一體 | 手動/自動/手動自動一體 |
系統控製 | PC軟件 | PC軟件 | PC軟件 |
蒸鍍過程控製 | 各操作環節，掩膜板更換、樣品架旋轉及定位、電源功率調節等均可在軟件界面完成 | 各操作環節，掩膜板更換、樣品架旋轉及定位、電源功率調節等均可在軟件界面完成 | 各操作環節，掩膜板更換、樣品架旋轉及定位、電源功率調節等均可在軟件界面完成 |
總功率 | ≥5KW | ≥8KW | ≥10KW |
抽氣速率 | 5.0×10-2Pa≤5min | 5.0×10-2Pa≤8min | 5.0×10-2Pa≤10min |
工作真空 | 優於5×10-4Pa，從大氣到工作真空時間≤30分鍾 | 優於5×10-4Pa，從大氣到工作真空時間≤30分鍾 | 優於5×10-4Pa，從大氣到工作真空時間≤30分鍾 |
極限真空 | 優於4.0×10-5Pa | 優於4.0×10-5Pa | 優於4.0×10-5Pa |
漏率 | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S |
分子泵類別 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 | 油/脂潤滑、磁懸浮可選 |
冷卻系統 | 搭配循環水冷卻 | 搭配循環水冷卻 | 搭配循環水冷卻 |
掩膜庫一 | 4位 | 4位 | 4位 |
掩膜庫二 | 6位 | 6位 | 6位 |
掩膜庫三 | 8位 | 8位 | 8位 |
參數/規格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
循環水參數 | ≤4LMP，溫度範圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% | ≤4LMP，溫度範圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% | ≤4LMP，溫度範圍-5°C~45°C，溫控精度0.1% |
真空系統 | 分子泵+機械泵PC軟件控製 | 分子泵+機械泵PC軟件控製 | 分子泵+機械泵PC軟件控製 |
蒸發電源 | 控製方式：恒流模式； 數量：按客戶要求； 功率：600W，1200W，1500W等可選； 精度：程控精度為量程的0.01%。 | 控製方式：恒流模式； 數量：按客戶要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度為量程的0.01% | 控製方式：恒流模式； 數量：按客戶要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度為量程的0.01%。 |
手套箱 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預留多個數據交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設備連接的儀器 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預留多個數據交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設備連接的儀器 | 單/雙工位可選，可按客戶要求預留多個數據交互接口（USB、BNC等）使用戶可無憂使用需要與外設備連接的儀器 |
真空保持 | 12小時≤2Pa | 12小時≤2Pa | 12小時≤2Pa |
參數/規格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
手套箱參數 | 手套箱含水氧探頭、氣體循環和再生系統。水氧含量控製在小於1 ppm。 | 手套箱含水氧探頭、氣體循環和再生系統。水氧含量控製在小於1 ppm。 | 手套箱含水氧探頭、氣體循環和再生系統。水氧含量控製在小於1 ppm。 |
系統保護 | 氣壓、高壓保護控製系統全程即時報警 | 氣壓、高壓保護控製系統全程即時報警 | 氣壓、高壓保護控製系統全程即時報警 |
氣路控製 | 超高真空氣動電磁閥 | 超高真空氣動電磁閥 | 超高真空氣動電磁閥 |
電氣櫃 | 與系統一體式集成化，節省空間 | 與系統一體式集成化，節省空間 | 與系統一體式集成化，節省空間 |
腔室測溫 | 可選高精度PT100測溫，軟件實時顯示溫度值 | 可選高精度PT100測溫，軟件實時顯示溫度值 | 可選高精度PT100測溫，軟件實時顯示溫度值 |
膜厚儀 | 腔室內可安裝1~8個探頭標配優質石英晶振膜厚控製儀；可選國產或進口監測控製儀 | 腔室內可安裝1~8個探頭標配優質石英晶振膜厚控製儀；可選國產或進口監測控製儀 | 腔室內可安裝1~8個探頭標配優質石英晶振膜厚控製儀；可選國產或進口監測控製儀 |
真空計顯示範圍 | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa |
機架 | 進口鋁型材組裝，整體簡潔大方 | 進口鋁型材組裝，整體簡潔大方 | 進口鋁型材組裝，整體簡潔大方 |
顯示屏 | 搭配工業級屏幕支架，可任意角度旋轉及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 | 搭配工業級屏幕支架，可任意角度旋轉及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 | 搭配工業級屏幕支架，可任意角度旋轉及隨意升降，滿足不同用戶的舒適要求 |
專業名詞解析
熱蒸發沉積： 熱蒸發沉積是在真空環境中加熱蒸發材料，使其氣化並在基底表面凝結成膜的物理氣相沉積方法。膜層質量同時受材料蒸氣壓、基底狀態、真空背景和沉積速率影響；
極限真空： 極限真空是腔體在無工藝負載條件下能夠達到的最低壓力。它反映真空系統的基礎能力，但實際沉積質量還取決於工作真空、放氣、泄漏和蒸發材料帶來的氣體負載；
蒸發速率： 蒸發速率表示單位時間沉積到基底上的名義膜厚，通常由石英晶體膜厚監控器測量。速率穩定性會影響膜層緻密性、組分和批次一緻性，不能隻看設定值；
膜厚均勻性： 膜厚均勻性描述基底不同位置膜厚的差異。蒸發源幾何、基底距離、遮板、旋轉方式和裝樣面積都會影響均勻性；
石英晶體膜厚監控： 石英晶體膜厚監控利用晶體諧振頻率隨沉積質量變化的規律估算沉積速率和膜厚。其結果需要結合材料密度、聲阻抗和晶體位置校準。
常見問題
AluVac360是一款面向高校和科研實驗室的自動化熱蒸發真空鍍膜儀，用於在半導體、光電器件及功能材料表面製備均勻薄膜。理解AluVac360時，重點關注熱蒸發沉積、極限真空、蒸發速率、膜厚均勻性和石英晶體膜厚監控。光伏、發光和微納器件對電極厚度、界面汙染和局部缺陷十分敏感。記錄極限真空、工作真空、蒸發速率、膜厚和裝樣幾何，才能區分材料差異與沉積工藝波動。
1. 問：AluVac360是什麼設備，核心測量或功能是什麼？
答：AluVac360是一款面向高校和科研實驗室的自動化熱蒸發真空鍍膜儀，用於在半導體、光電器件及功能材料表面製備均勻薄膜。采用熱蒸發沉積路線，配置分子泵與機械泵真空系統，真空計顯示範圍覆蓋1.0×10^5 Pa-1.0×10^-5 Pa。開展實驗前，應先明確希望比較的指標、工作條件和數據輸出，再據此設計AluVac360的測量流程。
2. 問：熱蒸發沉積是什麼？
答：熱蒸發沉積是在真空環境中加熱蒸發材料，使其氣化並在基底表面凝結成膜的物理氣相沉積方法。膜層質量同時受材料蒸氣壓、基底狀態、真空背景和沉積速率影響。
3. 問：如何正確理解極限真空，常見誤區是什麼？
答：極限真空是腔體在無工藝負載條件下能夠達到的最低壓力。它反映真空系統的基礎能力，但實際沉積質量還取決於工作真空、放氣、泄漏和蒸發材料帶來的氣體負載。常見誤區是隻比較最終數值，卻忽略測試條件、校準狀態或樣品差異。使用AluVac360進行跨樣品比較時，應保證關鍵條件一緻並報告不確定度。
4. 問：科研真空鍍膜為什麼越來越關注批次複現性？
答：光伏、發光和微納器件對電極厚度、界面汙染和局部缺陷十分敏感。記錄極限真空、工作真空、蒸發速率、膜厚和裝樣幾何，才能區分材料差異與沉積工藝波動。
5. 問：AluVac360測試中，哪些實驗條件最影響結果？
答：關注基底尺寸、蒸發材料、目標膜厚、所需極限真空和膜厚監控方式。還應記錄與極限真空和膜厚均勻性相關的設置，因為這些條件可能改變信號幅值、時間尺度、空間分布或計算結果。缺少條件記錄時，即使曲線外觀相似，也不宜直接比較。
6. 問：如何提高AluVac360數據的重複性和跨樣品可比性？
答：對金屬電極和功能薄膜，應分別驗證膜厚均勻性、附著性和批次重複性。建議設置空白、標準樣品或重複樣品，固定采集設置、校準方式和數據處理流程，並保留原始數據與完整元數據。批量測試還應監測系統隨時間的漂移。
7. 問：針對蒸發速率，怎樣設計一組更容易複核的實驗？
答：先固定樣品製備和AluVac360的基礎采集條件，再隻改變一個目標變量；隨後進行重複測量、條件反轉或對照實驗，並檢查原始數據是否支持同一趨勢。若蒸發速率的解釋依賴模型，應同時報告模型假設、擬合殘差和參數不確定度。
8. 問：膜厚均勻性為什麼容易造成誤判？如何排查？
答：膜厚均勻性描述基底不同位置膜厚的差異。蒸發源幾何、基底距離、遮板、旋轉方式和裝樣面積都會影響均勻性。排查時可從儀器校準、背景與空白、信號強度依賴、時間或空間重複性四個方面入手。隻有誤差來源被控製後，AluVac360結果才適合用於機理討論。
9. 問：石英晶體膜厚監控與當前研究熱點有什麼關系？
答：石英晶體膜厚監控利用晶體諧振頻率隨沉積質量變化的規律估算沉積速率和膜厚。其結果需要結合材料密度、聲阻抗和晶體位置校準。該問題連接AluVac360測量與當前科研中的性能比較、過程追蹤或可靠性評價。報告結果時，應給出明確實驗條件和判斷邊界，避免把相關性寫成因果關系。
10. 問：研究人員解讀AluVac360結果時，如何避免過度結論？
答：應先確認測試條件與方法假設，再結合蒸發速率、膜厚均勻性及獨立表征交叉判斷。單一數值、單張圖譜或一次測試通常不足以支持完整機理結論；重複實驗、對照組和原始數據質量比結論措辭更重要。
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