東譜科技真空鍍膜儀 AluVac/ SteeVac

真空鍍膜儀可提供最大200A蒸鍍電流，最大蒸發溫度可600°C，能夠滿足大部分有機材料的蒸鍍，也可按客戶需求定製更高蒸鍍溫度；真空腔室采用優質不鏽鋼材料，采用方形結構，內部空間充足；可設置最大16組不同的蒸發材料，滿足各種複雜的蒸鍍條件；搭配分子泵可達優於5*10-4Pa的真空度，適應絕大部分蒸發材料所需真空環境；配備全自動抽真空系統；可以實現軟件點擊開啟抽真空，全自動根據真空度檢測機械泵、分子泵、閘板閥、電磁閥的智能開啟，實現鼠標一鍵式抽真空。配備手套箱防抽爆自動檢測系統。真空鍍膜儀可提供最大200A蒸鍍電流，最大蒸發溫度可600°C，能夠滿足大部分有機材料的蒸鍍，也可按客戶需求定製更高蒸鍍溫度；真空腔室采用優質不鏽鋼材料，采用方形結構，內部空間充足；可設置最大16組不同的蒸發材料，滿足各種複雜的蒸鍍條件；搭配分子泵可達優於5*10-4Pa的真空度，適應絕大部分蒸發材料所需真空環境；配備全自動抽真空系統；可以實現軟件點擊開啟抽真空，全自動根據真空度檢測機械泵、分子泵、閘板閥、電磁閥的智能開啟，實現鼠標一鍵式抽真空。配備手套箱防抽爆自動檢測系統。

• 自動切換掩膜系統；
  
• 自動開關腔體，自動抽真空、退真空系統；
  
• 自動鍍膜工藝；
  
• 完善的錯誤檢測系統；
  
• 優異的鍍膜均勻性
  
• 提供定製化服務。
  

高精度多源真空鍍膜系統專攻高端薄膜製備領域，覆蓋有機分子薄膜（如OLED發光層）、半導體薄膜（鈣鈦礦/薄膜電池）、光學增透膜及金屬電極（薄膜晶體管柵極）等關鍵工藝，尤其適用於對膜層均勻性與純度要求嚴苛的OLED、鈣鈦礦太陽能電池、薄膜晶體管（TFT）等先進器件研發。

真空鍍膜儀技術配置高度靈活：支持2~16組蒸發源模塊化擴展，每源配備獨立鎢舟擋板及0~200A連續可調蒸發電流；蒸發電源可選1~10組，功率涵蓋600W/1200W/1500W三級梯度，滿足不同材料汽化需求。系統極限真空突破4×10⁻⁵Pa級，配合進口壓力開關實現正負壓智能保護，確保無氧環境抑製薄膜氧化；抽氣效率卓越（常壓→5×10⁻²Pa ≤10分鍾），且停機12小時內真空泄漏率≤2 Pa。創新設計包含4/6/8位掩膜庫快速切換及0~70mm樣品-源距動態調節功能，輔以手動/自動雙模門板控製，為複雜疊層工藝提供精準可控的製備條件。