产品简介
AluVac是一款面向高校和科研实验室的自动化热蒸发真空镀膜仪，用于在半导体、光电器件及功能材料表面制备均匀薄膜。系统集成真空获得、热蒸发沉积、状态监测与安全保护，主要用于提升薄膜制备的可控性和实验复现性。AluVac系列可提供最大200A蒸镀电流，最大蒸发温度可达600°C，能够满足大部分有机材料的蒸镀，可按客户需求定制更高蒸镀温度；真空腔室采用优质不锈钢材料，采用方形结构，内部空间充足；可设置最大16组不同的蒸发材料，可满足各种复杂的蒸镀条件；搭配分子泵可达优于5*10-4Pa的真空度，适应绝大部分蒸发材料所需真空环境。
产品特点
□ 自动切换掩膜系统；
□ 自动开关腔体，自动抽真空、退真空系统；
□ 自动镀膜工艺；
□ 完善的错误检测系统
□ 优异的镀膜均匀性；
□ 提供定制化服务。
产品应用
□ 有机分子薄膜制备；
□ 半导体薄膜制备；
□ 光学薄膜制备；
□ 金属电极制备；
□ 典型样品：OLED、钙钛矿、薄膜电池、薄膜晶体管等。
功能参数
□ 蒸发源数量：2~16组可选；
□ 蒸发电流：0~200A连续可调；
□ 蒸发电源模组：1~10组可选，功率600W,1200W,1500W可选；
□ 极限真空：优于4*10-5Pa；
□ 样品与蒸发源距离：固定或0~70mm可调；
□ 钨舟挡板：按蒸发源标配，2~16组；
□ 气压保护：进口压力开关，正负压可设置，有效保护真空环境；
□ 抽气速率：常压至5*10-2Pa≤10min；
□ 掩膜库：4位/6位/8位可选；
□ 真空保持：停止真空系统后12小时≤2 Pa；
□ 门板控制：手动、手动自动集成可选；
□ 采用热蒸发沉积路线，配置分子泵与机械泵真空系统，真空计显示范围覆盖1.0×10^5 Pa-1.0×10^-5 Pa；
□ PC软件统一控制真空获得和沉积过程，并对气压、高压等关键状态进行全过程监测与即时报警。
规格型号
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
镀膜方式 | 多源热蒸发镀膜 | 多源热蒸发镀膜 | 多源热蒸发镀膜 |
腔体结构 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 |
材质用料 | 优质真空不锈钢 | 优质真空不锈钢 | 优质真空不锈钢 |
真空腔室尺寸 | L260*W262*H351 | L360*W363*H486 | L460*W464*H635 |
加热温度 | 最大600℃ | 最大600℃ | 最大600℃ |
蒸发源数量 | 2~8可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 | 6~12可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 | 10~16可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 |
MagicVol/切换 | PC控制 | PC控制 | PC控制 |
蒸发源/加热温度 | 室温~600°C | 室温~600°C | 室温~600°C |
蒸发源参数 | 金属舟：200A | 金属舟：200A | 金属舟：200A |
基片台（样品架） | φ161mm | φ224mm | φ287mm |
样品托及掩模版 | 样品托面积：70×70mm，可放置最大65×65mm样品 | 样品托面积：100×100mm，可放置最大90×90mm样品 | 样品托面积：140×140mm，可放置最大134×134mm样品或放16片25×25mm样品 |
基片台挡板 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 |
基片台升降 | 固定间距或0~30mm可调 | 固定间距或0~50mm可调 | 固定间距或0~70mm可调 |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
基片尺寸 | ≤30×30mm | ≤30×30mm | ≤30×30mm |
膜厚不均匀性 | ≤5% | ≤5% | ≤5% |
备用接口 | 4 | 6 | 6 |
门板控制 | 手动/自动/手动自动一体 | 手动/自动/手动自动一体 | 手动/自动/手动自动一体 |
系统控制 | PC软件 | PC软件 | PC软件 |
蒸镀过程控制 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 |
总功率 | ≥5KW | ≥8KW | ≥10KW |
抽气速率 | 5.0×10-2Pa≤5min | 5.0×10-2Pa≤8min | 5.0×10-2Pa≤10min |
工作真空 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 |
极限真空 | 优于4.0×10-5Pa | 优于4.0×10-5Pa | 优于4.0×10-5Pa |
漏率 | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S |
分子泵类别 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 |
冷却系统 | 搭配循环水冷却 | 搭配循环水冷却 | 搭配循环水冷却 |
掩膜库一 | 4位 | 4位 | 4位 |
掩膜库二 | 6位 | 6位 | 6位 |
掩膜库三 | 8位 | 8位 | 8位 |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
循环水参数 | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% |
真空系统 | 分子泵+机械泵PC软件控制 | 分子泵+机械泵PC软件控制 | 分子泵+机械泵PC软件控制 |
蒸发电源 | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W，1200W，1500W等可选； 精度：程控精度为量程的0.01%。 | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度为量程的0.01% | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度为量程的0.01%。 |
手套箱 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 |
真空保持 | 12小时≤2Pa | 12小时≤2Pa | 12小时≤2Pa |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
手套箱参数 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 |
系统保护 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 |
气路控制 | 超高真空气动电磁阀 | 超高真空气动电磁阀 | 超高真空气动电磁阀 |
电气柜 | 与系统一体式集成化，节省空间 | 与系统一体式集成化，节省空间 | 与系统一体式集成化，节省空间 |
腔室测温 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 |
膜厚仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 |
真空计显示范围 | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa |
机架 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 |
显示屏 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 |
专业名词解析
热蒸发沉积： 热蒸发沉积是在真空环境中加热蒸发材料，使其气化并在基底表面凝结成膜的物理气相沉积方法。膜层质量同时受材料蒸气压、基底状态、真空背景和沉积速率影响；
极限真空： 极限真空是腔体在无工艺负载条件下能够达到的最低压力。它反映真空系统的基础能力，但实际沉积质量还取决于工作真空、放气、泄漏和蒸发材料带来的气体负载；
蒸发速率： 蒸发速率表示单位时间沉积到基底上的名义膜厚，通常由石英晶体膜厚监控器测量。速率稳定性会影响膜层致密性、组分和批次一致性，不能只看设定值；
膜厚均匀性： 膜厚均匀性描述基底不同位置膜厚的差异。蒸发源几何、基底距离、遮板、旋转方式和装样面积都会影响均匀性；
石英晶体膜厚监控： 石英晶体膜厚监控利用晶体谐振频率随沉积质量变化的规律估算沉积速率和膜厚。其结果需要结合材料密度、声阻抗和晶体位置校准。
常见问题
AluVac360是一款面向高校和科研实验室的自动化热蒸发真空镀膜仪，用于在半导体、光电器件及功能材料表面制备均匀薄膜。理解AluVac360时，重点关注热蒸发沉积、极限真空、蒸发速率、膜厚均匀性和石英晶体膜厚监控。光伏、发光和微纳器件对电极厚度、界面污染和局部缺陷十分敏感。记录极限真空、工作真空、蒸发速率、膜厚和装样几何，才能区分材料差异与沉积工艺波动。
1. 问：AluVac360是什么设备，核心测量或功能是什么？
答：AluVac360是一款面向高校和科研实验室的自动化热蒸发真空镀膜仪，用于在半导体、光电器件及功能材料表面制备均匀薄膜。采用热蒸发沉积路线，配置分子泵与机械泵真空系统，真空计显示范围覆盖1.0×10^5 Pa-1.0×10^-5 Pa。开展实验前，应先明确希望比较的指标、工作条件和数据输出，再据此设计AluVac360的测量流程。
2. 问：热蒸发沉积是什么？
答：热蒸发沉积是在真空环境中加热蒸发材料，使其气化并在基底表面凝结成膜的物理气相沉积方法。膜层质量同时受材料蒸气压、基底状态、真空背景和沉积速率影响。
3. 问：如何正确理解极限真空，常见误区是什么？
答：极限真空是腔体在无工艺负载条件下能够达到的最低压力。它反映真空系统的基础能力，但实际沉积质量还取决于工作真空、放气、泄漏和蒸发材料带来的气体负载。常见误区是只比较最终数值，却忽略测试条件、校准状态或样品差异。使用AluVac360进行跨样品比较时，应保证关键条件一致并报告不确定度。
4. 问：科研真空镀膜为什么越来越关注批次复现性？
答：光伏、发光和微纳器件对电极厚度、界面污染和局部缺陷十分敏感。记录极限真空、工作真空、蒸发速率、膜厚和装样几何，才能区分材料差异与沉积工艺波动。
5. 问：AluVac360测试中，哪些实验条件最影响结果？
答：关注基底尺寸、蒸发材料、目标膜厚、所需极限真空和膜厚监控方式。还应记录与极限真空和膜厚均匀性相关的设置，因为这些条件可能改变信号幅值、时间尺度、空间分布或计算结果。缺少条件记录时，即使曲线外观相似，也不宜直接比较。
6. 问：如何提高AluVac360数据的重复性和跨样品可比性？
答：对金属电极和功能薄膜，应分别验证膜厚均匀性、附着性和批次重复性。建议设置空白、标准样品或重复样品，固定采集设置、校准方式和数据处理流程，并保留原始数据与完整元数据。批量测试还应监测系统随时间的漂移。
7. 问：针对蒸发速率，怎样设计一组更容易复核的实验？
答：先固定样品制备和AluVac360的基础采集条件，再只改变一个目标变量；随后进行重复测量、条件反转或对照实验，并检查原始数据是否支持同一趋势。若蒸发速率的解释依赖模型，应同时报告模型假设、拟合残差和参数不确定度。
8. 问：膜厚均匀性为什么容易造成误判？如何排查？
答：膜厚均匀性描述基底不同位置膜厚的差异。蒸发源几何、基底距离、遮板、旋转方式和装样面积都会影响均匀性。排查时可从仪器校准、背景与空白、信号强度依赖、时间或空间重复性四个方面入手。只有误差来源被控制后，AluVac360结果才适合用于机理讨论。
9. 问：石英晶体膜厚监控与当前研究热点有什么关系？
答：石英晶体膜厚监控利用晶体谐振频率随沉积质量变化的规律估算沉积速率和膜厚。其结果需要结合材料密度、声阻抗和晶体位置校准。该问题连接AluVac360测量与当前科研中的性能比较、过程追踪或可靠性评价。报告结果时，应给出明确实验条件和判断边界，避免把相关性写成因果关系。
10. 问：研究人员解读AluVac360结果时，如何避免过度结论？
答：应先确认测试条件与方法假设，再结合蒸发速率、膜厚均匀性及独立表征交叉判断。单一数值、单张图谱或一次测试通常不足以支持完整机理结论；重复实验、对照组和原始数据质量比结论措辞更重要。
产品关键词：AluVac系列铝腔体真空镀膜仪，AluVac360，热蒸发沉积，极限真空，蒸发速率，膜厚均匀性，石英晶体膜厚监控，AluVac360测试原理，AluVac360数据分析，科研真空镀膜，批次复现性，热蒸发沉积测量，极限真空常见误区，蒸发速率数据解释，膜厚均匀性误差排查，石英晶体膜厚监控研究热点
