东谱科技真空镀膜仪 AluVac/ SteeVac

真空镀膜仪可提供最大200A蒸镀电流，最大蒸发温度可600°C，能够满足大部分有机材料的蒸镀，也可按客户需求定制更高蒸镀温度；真空腔室采用优质不锈钢材料，采用方形结构，内部空间充足；可设置最大16组不同的蒸发材料，满足各种复杂的蒸镀条件；搭配分子泵可达优于5*10-4Pa的真空度，适应绝大部分蒸发材料所需真空环境；配备全自动抽真空系统；可以实现软件点击开启抽真空，全自动根据真空度检测机械泵、分子泵、闸板阀、电磁阀的智能开启，实现鼠标一键式抽真空。配备手套箱防抽爆自动检测系统。真空镀膜仪可提供最大200A蒸镀电流，最大蒸发温度可600°C，能够满足大部分有机材料的蒸镀，也可按客户需求定制更高蒸镀温度；真空腔室采用优质不锈钢材料，采用方形结构，内部空间充足；可设置最大16组不同的蒸发材料，满足各种复杂的蒸镀条件；搭配分子泵可达优于5*10-4Pa的真空度，适应绝大部分蒸发材料所需真空环境；配备全自动抽真空系统；可以实现软件点击开启抽真空，全自动根据真空度检测机械泵、分子泵、闸板阀、电磁阀的智能开启，实现鼠标一键式抽真空。配备手套箱防抽爆自动检测系统。

• 自动切换掩膜系统；
  
• 自动开关腔体，自动抽真空、退真空系统；
  
• 自动镀膜工艺；
  
• 完善的错误检测系统；
  
• 优异的镀膜均匀性
  
• 提供定制化服务。
  

高精度多源真空镀膜系统专攻高端薄膜制备领域，覆盖有机分子薄膜（如OLED发光层）、半导体薄膜（钙钛矿/薄膜电池）、光学增透膜及金属电极（薄膜晶体管栅极）等关键工艺，尤其适用于对膜层均匀性与纯度要求严苛的OLED、钙钛矿太阳能电池、薄膜晶体管（TFT）等先进器件研发。

真空镀膜仪技术配置高度灵活：支持2~16组蒸发源模块化扩展，每源配备独立钨舟挡板及0~200A连续可调蒸发电流；蒸发电源可选1~10组，功率涵盖600W/1200W/1500W三级梯度，满足不同材料汽化需求。系统极限真空突破4×10⁻⁵Pa级，配合进口压力开关实现正负压智能保护，确保无氧环境抑制薄膜氧化；抽气效率卓越（常压→5×10⁻²Pa ≤10分钟），且停机12小时内真空泄漏率≤2 Pa。创新设计包含4/6/8位掩膜库快速切换及0~70mm样品-源距动态调节功能，辅以手动/自动双模门板控制，为复杂叠层工艺提供精准可控的制备条件。